高真空磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀是用于在真空環(huán)境中通過(guò)磁控濺射技術(shù)和蒸發(fā)法結(jié)合制備薄膜的設(shè)備，主要用于半導(dǎo)體材料、光學(xué)元件等領(lǐng)域的薄膜制備。
性能特點(diǎn)
薄膜質(zhì)量高：磁控濺射沉積的薄膜致密、附著力強(qiáng)，可準(zhǔn)確控制膜厚和成分；真空蒸發(fā)可實(shí)現(xiàn)高純度薄膜的沉積，兩者結(jié)合能制備出性能良好的薄膜，如在光學(xué)薄膜、電子器件薄膜等方面具有良好的應(yīng)用效果。
鍍膜材料廣泛：能處理金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體等多種材料，既可以通過(guò)磁控濺射沉積高熔點(diǎn)金屬、合金及化合物薄膜，也可以通過(guò)真空蒸發(fā)沉積純金屬、有機(jī)物等薄膜。
工藝靈活性強(qiáng)：可通過(guò)調(diào)整磁控濺射的功率、氣體壓力、靶基距，以及真空蒸發(fā)的加熱溫度、蒸發(fā)速率等參數(shù)，實(shí)現(xiàn)多種鍍膜工藝，如單靶濺射、多靶共濺射、反應(yīng)濺射、蒸發(fā)鍍膜以及它們的組合工藝等。
應(yīng)用領(lǐng)域
電子領(lǐng)域：用于制備半導(dǎo)體芯片的電極、互連層、阻擋層，以及平板顯示器的透明導(dǎo)電膜、光學(xué)介質(zhì)膜等，如氧化銦錫透明電極、銅互連層等的制備。
光學(xué)領(lǐng)域：可制備增透膜、濾光膜、反射膜等光學(xué)薄膜，提高光學(xué)元件的光學(xué)性能，如在激光器件、太陽(yáng)能電池、光學(xué)鏡頭等方面的應(yīng)用。
機(jī)械領(lǐng)域：在模具、軸承等表面沉積硬質(zhì)耐磨涂層、自潤(rùn)滑涂層等，提高其硬度、耐磨性和使用壽命。
裝飾領(lǐng)域：用于在汽車(chē)內(nèi)外飾件、電子產(chǎn)品外殼、珠寶飾品等表面鍍制金屬膜、合金膜、彩色膜等，提升產(chǎn)品的美觀性和裝飾性。
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